投资者问到：CMP抛光垫是集成电路制造过程中的关键工艺材料，用于在集成电路...

投资额者提问：

CMP磨光垫是集成电路仿造过程之中的关键性工艺材料，常用在集成电路前段仿造过程之中通过化学物理抑制作用打磨积体电路，保证积体电路表面平坦，是不能不集成电路行业被国外卡脖子的关键性材料，明明新公司作为磨光领域的专家，是否有在研发半导体用的CMP磨光垫？

董秘回答(宇环数控SZ002903)：

CMP磨光垫又称CMP研磨垫，是CPM磨光机上的重要部件，统称磨光耗材。我新公司作为数控磨削设备的专业知识供应商，统称设备厂商，我新公司拥有应常用半导体材料加工的CMP磨光机设备。

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